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合作案例

清華大學(xué)采購PLUTO-T等離子清洗機(jī) 清華大學(xué)調(diào)研了眾多等離子表面處理設(shè)備，最終選擇了上海沛沅生產(chǎn)的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)。根據(jù)客戶的技術(shù)要求，提供了可以滿足老師所有技術(shù)參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)，以下為該設(shè)備的安裝調(diào)試圖。
上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備 2020年12月，上海交通大學(xué)采購我司PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備。該設(shè)備采用13.56MHz射頻，涂覆面積為150*150mm，具備良好的穩(wěn)定性與可重復(fù)性。
電子科技大學(xué)采用Pluto-MD等離子去膠機(jī)進(jìn)行晶圓去膠電子科技大學(xué)已采購多臺等離子設(shè)備，包括PLUTO-T等離子清洗機(jī)，PLUTO-MD等離子去膠機(jī)等，用戶反饋良好。主要涉及的應(yīng)用有：晶圓光刻膠的去除、電子半導(dǎo)體樣品表面有機(jī)物的去除、多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的表面處理等等。

新聞中心

企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

: 等離子清洗機(jī)：高效清潔技術(shù)贏得廣泛青睞

等離子清洗機(jī)因其高效的表面處理能力而廣受歡迎，在眾多行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)發(fā)揮著關(guān)鍵作用。這種設(shè)備利用等離子體技術(shù)，能夠去除材料表面的有機(jī)污染物，改善粘接、涂裝和印刷工藝的...
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技術(shù)文章| Technical articles

: 等離子去膠機(jī)在半導(dǎo)體制造業(yè)中非常重要

等離子去膠機(jī)是應(yīng)用等離子技術(shù)進(jìn)行表面處理的設(shè)備，具有高效、環(huán)保等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于汽車制造、電子設(shè)備維修以及半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。在這種技術(shù)的幫助下，材料表面的清潔、改性或涂層去除等工序得以精準(zhǔn)且高效地完成。1.工作原理：等離子去膠機(jī)主要通過產(chǎn)生等離子體，即電離狀態(tài)的氣體，其中帶電的粒子在電場的作用下高速運(yùn)動，對目標(biāo)材料表面進(jìn)行轟擊。這種高速轟擊可以去除表面分子，實(shí)現(xiàn)清潔或表面改性的效果。在半導(dǎo)體制造過程中，等離子體技術(shù)被用于刻蝕工藝，其中的離子對被刻蝕的表面進(jìn)行撞擊，形成損傷層...
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應(yīng)用案例

01 等離子清洗
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。

圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
02 等離子去膠
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。

圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
03 等離子活化改性
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤性、相容性；

圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
04 等離子刻蝕
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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